等离子CVD的构成例 (W35系列)

等离子CVD的构成例 (W35系列)
等离子CVD的构成例 (W35系列)

通过2根辊子之间发生的放电等离子CVD方法,对树脂基膜等基材采用卷到卷方式进行组隔膜・硬化膜镀膜的PECVD卷绕镀膜机。

薄膜以及柔性基材上镀SiOx(硅膜),实现有机EL・电子纸・照明・太阳能电池灯所必需的阻隔性(水蒸气透过率WVTR 10-2~10-5台(g/m2/day) )。

面向R&D・实验性生产的卷绕镀膜机
W35系列

辊子间等离子

面向量产的PECVD卷绕镀膜机
W60C系列

原理

CVD卷绕镀膜机概念图
CVD卷绕镀膜机概念图

在卷绕着基膜的2根辊之间加入磁场,提供电力,发生放电,再向辊子之间加入HMDSO等原料气体,对基膜进行等离子CVD。

2根电极辊的相向面被基膜所覆盖,所生成的膜物质有效的再基膜上进行成膜。依靠此机械结构实现以下功能。

  • 材料的高利用率
  • 高速镀膜
  • 不要对向电极,实现低污染。实现可长时间稳定放电。

另外,等离子分布均一性高,宽幅・大面积镀膜时的膜分布均一性优越。

特征

  1. 1.番高速镀膜:最大300nm・m/min (组隔膜镀膜条件下)。
  2. 2.番低污染,可长时间稳定放电。
  3. 3.番大面积处理:等离子均一性高,可向宽幅材镀膜扩张。
  4. 4.番动作压力:低动作压力(Pa级别)・低污染。
  5. 5.番镀膜膜种:SiOx、SiO2等硅系・氧化物皮膜,DLC等。
  6. 6.番原料气体:安全性高,使用HMDSO等。

应用例

1.透明组隔膜

本CVD所镀的膜的有丰富的可弯曲性,灵活的树脂基膜上可镀上一定厚度的膜。

激活其特征可以镀膜厚300nm时,水蒸气透过率WVTR 1×10-2(g/m2/day)不到,1000nm时5×10-4(g/m2/day)的测定界限不到的SiOx膜组隔膜。和湿法涂布,磁控溅射/蒸镀皮膜的层积相比可实现更优越的组隔膜。

2.光学膜

本CVD所镀膜与磁控溅射镀膜一样可作为光学膜被使用,和磁控溅射相比生产性高是其特征。含有通过本CVD所镀膜的不同折射率的膜组合,可以作为防反射膜以及过滤膜使用。作为防反射膜的一个例子,触摸屏的透明导电膜的用途中导电层(ITO等)下部所使用SiOx膜可用来调整光学特性。镜头・镜子以及光盘上也可适用。作为过滤膜的一个例子,有隔热目的的红外线反射膜等。利用光的干涉也可以用于装饰膜。

3.绝缘膜・保护膜

使用本CVD镀的膜,可作为柔性基材上形成的电气回路上的镀膜,作为绝缘膜・保护膜所使用。

4.硬化膜(透明保护膜)

利用本CVD镀的膜可作为树脂基材的耐擦伤膜所使用。

5.其他的机能膜

通过变换CVD原料(原料气体)可形成各种各样的皮膜。可期待光触媒膜,耐腐蚀膜,透明导电膜等多种多样的展开。

利用本等离子源,不限于镀膜,也可作为表面品质改良以及表面活化性处理等等离子源使用,另外也可以作为蚀刻目的使用。

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