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焼結HIP装置

真空あるいは常圧焼結とHIP処理を連続して行う装置です。焼結からHIP処理までを一連の熱サイクルにて行えるため、従来の焼結とHIP処理を別の装置で行う場合に比べて、再加熱の必要がなく、エネルギーロスが少ない処理が可能になります。

SINTER/HIP装置

代表的な仕様例

※Gr:グラファイト
  中型機
PSF5603
大型機
PSF7001
主仕様 圧力×温度 真空×1600℃
29.4MPa×1600℃
(300kgf/cm2)
真空×1600℃
9.8MPa×1600℃
(100kgf/cm2)
ヒータ構成 Grヒータ 2ゾーン Grヒータ 3ゾーン
処理品外法寸法 Φ300mm×500mmL Φ420mm×1170mmL
均熱性℃ 真空×1450℃
:10℃以下
9.8MPa×1600℃
(100kgf/cm2)
:10℃以下
真空×1450℃
:10℃以下
9.8MPa×1600℃
(100kgf/cm2)
:10℃以下
真空排気系 真空到達時間 0.133Pa 15分以内 0.133Pa 15分以内
真空リーク量 1.33×10-4Pam3/s以下 1.33×10-4Pam3/s以下

これら以外の仕様をご希望の場合は、下記までお気軽にご相談下さい。

その他のHIP装置

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