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標準小型HIP装置

処理条件、設置条件、生産計画に合った装置を設計、製作致します。また、ガス集合装置、障壁、搬送装置なども合わせて提供致します。

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196MPa(2000kgf/cm2)×2000℃×Φ190mm×450mmL

代表的な仕様例

※Gr:グラファイト,Mo:モリブデン
※Ar+O2*:アルゴン+酸素。酸素濃度は最大20%です。
形式 加熱装置 処理室寸法
直径×高さ
最高温度 最高圧力 使用ガス
SYS50X-SB Gr Φ190mm×450mmL 2000℃ 196MPa
(2000kgf/cm2)
Ar,N2
Mo Φ220mm×500mmL 1500℃ Ar
Pt Φ130mm×450mmL 1400℃ Ar,N2,Ar+O2*
HP380 Gr Φ250mm×760mmL 2000℃ 200MPa
(2039kgf/cm2)
Ar,N2
Mo Φ260mm×760mmL 1500℃ Ar
SYS125 Gr Φ270mm×500mmL 1500℃ 98MPa
(1000kgf/cm2)
Ar,N2
Mo Φ250mm×500mmL 1500℃ Ar
SYS190 Gr Φ270mm×1000mmL 1500℃ Ar, N2

その他のHIP装置

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